LTS -20℃~80℃

2023-05-17 1357

Es wird häufig in der Halbleiterherstellung verwendet, um die Temperatur der Reaktionskammer, die Temperatur der Wärmesenke und die Temperatur der nicht brennbaren Flüssigkeit des Wärmeübertragungsmediums zu kontrollieren...

Details anzeigen

LTS -40℃~80℃

2023-05-17 1468

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer...

Details anzeigen

LTS -60℃~80℃

2023-05-17 1423

Es wird häufig in der Halbleiterherstellung verwendet, um die Temperatur der Reaktionskammer, die Temperatur der Wärmesenke und die Temperatur der nicht brennbaren Flüssigkeit des Wärmeübertragungsmediums zu kontrollieren...

Details anzeigen

LTS -80℃~80℃

2023-05-17 1429

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer me...

Details anzeigen