LTS -20℃~80℃

2023-05-17 1438

Es wird häufig in der Halbleiterherstellung verwendet, um die Temperatur der Reaktionskammer, die Temperatur der Wärmesenke und die Temperatur der nicht brennbaren Flüssigkeit des Wärmeübertragungsmediums zu kontrollieren...

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LTS -40℃~80℃

2023-05-17 1546

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer...

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LTS -60℃~80℃

2023-05-17 1504

Es wird häufig in der Halbleiterherstellung verwendet, um die Temperatur der Reaktionskammer, die Temperatur der Wärmesenke und die Temperatur der nicht brennbaren Flüssigkeit des Wärmeübertragungsmediums zu kontrollieren...

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LTS -80℃~80℃

2023-05-17 1498

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer me...

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