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FLTZ 5℃~90℃
LNEYA Thermokühler sind für anspruchsvolle Temperaturregelungsanwendungen konzipiert und unterstützen Ihr Geschäft mit professioneller Technologie.
Die FLTZ 5℃~90℃ Serie bietet industrielle und prozesstechnische Thermokühler mit präziser Temperaturregelung. Diese Kühler halten die Temperatur innerhalb von ±0.05℃ und gewährleisten eine stabile Leistung für empfindliche Industrieprozesse.
Jedes Gerät verfügt über einen farbigen Touchscreen, der wichtige Informationen in Echtzeit anzeigt. Sie können die Temperatur an den Kontrollpunkten, Ein- und Ausgangsdrücke, Kondensations- und Kühlwassertemperaturen, Flüssigkeits- und Gasparameter, den Stromverbrauch und den Wasserstand im Tank überwachen. Dies hilft Ihnen, die Leistung zu verfolgen und schnell auf Veränderungen zu reagieren.
Die FLTZ 5℃~90℃ Thermokühler unterstützen Systemintegration und Fernsteuerung. Sie können den Kühler mit Ihrer Anlage verbinden, um den Betrieb zu überwachen und Einstellungen aus der Ferne anzupassen. Das kompakte Design spart Stellfläche und bietet flexible Installationsmöglichkeiten für verschiedene industrielle Umgebungen.
| Modell | FLTZ-002 FLTZ-002W | FLTZ-003 FLTZ-003W | FLTZ-004 FLTZ-004W | FLTZ-006 FLTZ-006W | FLTZ-008 FLTZ-008W | FLTZ-010 FLTZ-010W | FLTZ-015 FLTZ-015W |
| Temperaturbereich | 5℃～90℃ | ||||||
| Genauigkeit der Temperaturregelung | ±0.05℃（Ausgangstemperatur im stationären Zustand） | ||||||
| Kühlleistung @10℃ | 6kW | 8kW | 10kW | 15kW | 20kW | 25kW | 40kW |
| Interner Umlaufmedienvolumen | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| Volumen des Ausdehnungsgefäßes | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| Kältemittel | R410A | ||||||
| Kühlmedium | Silikonöl, fluorierte Flüssigkeit, Polyol-Wasserlösung, DI usw. (DI-Temperatur muss über 10℃ kontrolliert werden) | ||||||
| Größe der Verbindung | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| Anschlussgröße für Kühlwasser | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| Kühlwasserfluss @20℃ | 1.5m³/h | 2m³/h | 2.5m³/h | 4m³/h | 4.5m³/h | 5.6m³/h | 9m³/h |
| Abmessungen（cm） | 950*380*1055 | 950*380*1055 | 950*380*1055 | 980*430*1400 | 980*430*1400 | 1080*600*1500 | 1080*600*1500 |
| Kontrolle der Prozesstemperatur | Die entfernte Zieltemperatur kann durch die Kombination des selbst erstellten modellfreien Selbststeuerungssystems gesteuert werden. Baumaufbaualgorithmus und Kaskadenalgorithmus | ||||||
Es kann die strengsten Prozessanforderungen in der Halbleiterfertigung erfüllen. Zum Beispiel kann im Fotolithografieprozess jede geringfügige Temperaturschwankung zu einer thermischen Verformung des optischen Systems führen, und die Temperaturstabilität bestimmt direkt den Erfolg oder Misserfolg der Belichtungsgenauigkeit.
Es hat nach und nach ozonschädigende Stoffe wie R22 ersetzt und erfüllt die Übergangszeit-Anforderungen des Montrealer Protokolls.
Ein einzelnes Gerät ersetzt das herkömmliche getrennte Heiz-/Kühlsystem, reduziert den Platzbedarf der Anlage und kann schnelle Temperaturänderungen ohne Wechsel des Mediums erreichen, wodurch die Produktionseffizienz gesteigert wird.
Die hohe Wiederholgenauigkeit der Steuerergebnisse ist der zentrale Leistungsindikator von Chilleranlagen für die Halbleiterfertigung. Dieses Merkmal bestimmt direkt den Ertrag und die Prozessstabilität bei der Chipproduktion.
Eine präzise Temperaturregelung wird durch Rückgewinnung der Abwärme im Kältekreislauf erreicht, was das fortschrittliche Designkonzept der Energieeffizienzoptimierung und Systemintegration widerspiegelt.
Es werden frequenzvariable Kompressoren, Lüfter und Pumpen eingesetzt, um Durchfluss und Druck automatisch zu steuern und den Energieverbrauch zu reduzieren.
Der FLTZ 5℃~90℃ Thermokühler wird aufgrund seines großen Temperaturbereichs häufig in Halbleiteranwendungen eingesetzt, die eine beidseitige Temperaturregelung erfordern.
Wafer-Reinigung
Die Waferreinigung erfordert den Einsatz von Chemikalien wie SC1 (Ammoniak + Wasserstoffperoxid) und SC2 (Salzsäure + Wasserstoffperoxid), um den Wafer zu reinigen, und die Reaktionstemperatur muss stabil im Bereich von 25℃-80℃ geregelt werden. Der Chiller hilft, die Temperatur des Reinigungstanks zu kontrollieren, um thermische Spannungen und damit eine Verformung des Wafers zu vermeiden und eine Überhitzung der Pumpeneinheit zu verhindern.
Fotolithografie
DUV/EUV-Lithografiemaschinen sind äußerst empfindlich gegenüber Temperaturschwankungen, daher muss nach dem Auftragen des Fotolacks eine spezifische konstante Temperaturumgebung aufrechterhalten werden. Halbleiter-Chiller können eine konstante Temperaturumgebung für Lithografiemaschinen bereitstellen.
Ätzen
• Während des Trockenätzens muss die HF-Stromversorgung der Kavität innerhalb eines bestimmten Temperaturbereichs gekühlt werden, um Überhitzung und Prozessdrift zu verhindern.
Mehr als 30.000 Kunden bedient.
Export in über 20 Länder.
Hat CE-Zertifizierung, SGS-Zertifizierung, ISO-Zertifizierung erhalten
Umfassende technische Schulungen anbieten.
Mit 24/7-Lösungen.
Gegründet 2010, mit 15 Jahren Branchenerfahrung.
20 % der Mitarbeiter sind Techniker.
Sichtprüfung.
Leistungstest.
Elektrische Sicherheitsprüfung.
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