Wie funktionieren CVD- und PVD-Kühler für Halbleiter?
Das Funktionsprinzip der Kühler, die bei der chemischen Abscheidung aus der Gasphase (CVD) und der physikalischen Abscheidung aus der Gasphase (PVD) von Halbleitern eingesetzt werden, besteht hauptsächlich darin, die während des Prozesses erzeugte Wärme durch Umwälzung von Kühlwasser oder speziellen Kühlmitteln abzuführen, um sicherzustellen, dass die Temperatur der Anlagen und der Reaktionsumgebung innerhalb eines bestimmten Bereichs stabil ist. Obwohl es sich in beiden Fällen um Abscheidungstechnologien handelt, sind die spezifischen Anwendungen von Kühlern in den beiden Verfahren unterschiedlich, und ihre Arbeitsmethoden lassen sich wie folgt zusammenfassen:
Wie die Kühler bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) funktionieren:
Wärmeabfuhr: Während des CVD-Prozesses setzen die chemischen Reaktionen viel Wärme frei. Die Kältemaschine absorbiert diese Wärme effektiv, indem sie das Kühlmittel im Kühlsystem durch die externe oder interne Kühlstruktur der Reaktionskammer (z. B. Kühlschlangen oder Wärmetauscher) zirkulieren lässt, wodurch eine Überhitzung der Kammer oder der Reaktanten verhindert und stabile Reaktionsbedingungen aufrechterhalten werden.
Präzise Temperaturregelung: Kältemaschinen sind in der Regel mit präzisen Temperaturregelungssystemen wie PID-Reglern ausgestattet, die die Temperatur und den Durchfluss des Kühlmittels genau an den Sollwert anpassen können, um sicherzustellen, dass die Temperatur der Reaktionskammer innerhalb des für den Prozess erforderlichen Bereichs geregelt wird, was für die Kontrolle der chemischen Reaktionsgeschwindigkeit und der Produktqualität entscheidend ist.
Stabilität und Effizienz: Bei der Konstruktion der Kältemaschine stehen Energieeffizienz und Stabilität im Vordergrund, um sicherzustellen, dass die Kühlleistung auch im langfristigen Dauerbetrieb stabil bleibt, was für die kontinuierliche Produktion des CVD-Prozesses sehr wichtig ist.
Wie der Kühler bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) funktioniert:
Wärmemanagement: Während des PVD-Prozesses wird auch viel Wärme erzeugt, insbesondere beim Sputtern oder bei der Aufdampfbeschichtung. Der Chiller verwendet auch ein Kühlmittelzirkulationssystem, um das Target, die Vakuumkammerwand oder andere Teile, die gekühlt werden müssen, zu kühlen, um zu verhindern, dass eine zu hohe Temperatur die Qualität und Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schicht beeinträchtigt.
Gleichmäßige Temperatur: Bei der PVD-Beschichtung trägt der Kühler dazu bei, eine gleichmäßige Temperatur im gesamten Beschichtungsbereich aufrechtzuerhalten, was für die Herstellung hochwertiger Dünnfilmschichten entscheidend ist. Durch eine präzise Temperatursteuerung können Defekte reduziert und die Haftung und Leistung der Schicht verbessert werden.
Schutz der Ausrüstung: Neben der direkten Temperaturregelung spielt der Kühler auch eine Rolle beim Schutz der PVD-Anlagen, um durch hohe Temperaturen verursachte Anlagenschäden oder Leistungseinbußen zu vermeiden.
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Kältemaschine - unabhängig davon, ob es sich um CVD oder PVD handelt - die Temperaturstabilität der Anlage und des Prozesses aufrechterhält, indem sie das Kühlmedium zirkulieren lässt, um eine präzise Prozesssteuerung und Produktqualität zu gewährleisten. Dies setzt voraus, dass die Kältemaschine eine hochpräzise Temperaturregelung, eine stabile Leistung und eine gute Integration in die Prozessausrüstung bietet.
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