Präzise Temperaturregelung vieler Prozesse in der Halbleiterproduktion. In nahezu unbegrenzten Einzelschritten extrem dünn auftragen, partiell abdecken und freiliegende Stellen mit absoluter Präzision entfernen. Ätzbäder müssen in einem optimalen Temperaturbereich gehalten werden, um die Ätzraten bei nasschemischen Prozessen konstant und vorhersehbar zu halten. Dies erfordert den Einsatz absolut präziser und zuverlässiger Temperierlösungen.

Temperaturkontrolle von Ätzbädern für die nasschemische Herstellung von Wafern und Mikrochips. Weitere Anwendungen sind Funktions- und Materialprüfungen elektrischer und elektronischer Komponenten und Funktionsgruppen mit nichtleitenden Thermoflüssigkeiten wie Galden oder FC77. Ein perfekt abgestimmtes Temperaturregelsystem verbessert nicht nur die Produktionsergebnisse, sondern erhöht auch die Prozesssicherheit und reduziert Produktionszeit, -kosten und -wartung.