Halbleiter

Schnell/Stabil/Konstante Temperatur

Präzise Temperaturkontrolle vieler Prozesse in der Halbleiterproduktion. Auftragen extrem dünner Schichten, Teilmasken und Entfernen unbedeckter Teile mit absoluter Präzision in einer nahezu unbegrenzten Anzahl von Einzelschritten. Ätzbäder müssen in einem optimalen Temperaturbereich gehalten werden, um die Ätzraten in nasschemischen Prozessen konstant und vorhersehbar zu halten. Dies erfordert den Einsatz von absolut präzisen und zuverlässigen Temperierlösungen.

Temperaturregelung von Ätzbädern für die nasschemische Herstellung von Wafern und Mikrochips. Weitere Anwendungen sind Funktions- und Materialprüfungen von elektrischen und elektronischen Bauteilen und Funktionsgruppen unter Verwendung von nichtleitenden Thermofluiden wie Galden oder FC77. Ein perfekt abgestimmtes Temperaturkontrollsystem verbessert nicht nur die Produktionsergebnisse, sondern erhöht auch die Prozesssicherheit und reduziert Produktionszeit, Kosten und Wartungsaufwand.

TES-NM65NT |

Mit Prüfkammer |

Temperaturregelbereich: -60℃~200℃

Heizleistung: 5.5kW

Kühlleistung: 1.2kW~5.5kW

Leistung MAX: 12kW

Typen: Wassergekühlte Kaltwassersätze / Luftgekühlte Kaltwassersätze

SUNDI-15W |

Für Chip-Tests |

Temperaturregelbereich: -100℃~200℃

Heizleistung: 5.5kW

Kühlleistung: 1.2kW~5.5kW

Leistung MAX: 12kW

Typen: Luftgekühlte Kaltwassersätze

Geeignete Produkteempfehlen.

MD-Serie Futter
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-75℃ bis 225°C Modell MD-708 MD-712 MDL-708 Temp. Bereich -75℃～225℃ -75℃～225℃ -75℃～225℃ Temperaturregelgenauigkeit ±0,1℃ ±0,1℃ ±0,1℃ Temperaturgleichmäßigkeit ±1℃ ±1℃ ±1℃ Ebenheit ±50um ±50um ±50um Tablettengröße 200mm Durchmesser d...
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YQH 0℃~-75℃
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ZLJ-Reihe
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Mehrere Regelungsanforderungen können durch die Zusammenlegung mehrerer Geräte in einem größeren Schrank erfüllt werden Verwendet für kleine Wärmeaustauschfläche und große Wärmeaustauschkapazität Das Produkt gibt direkt...
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LTS -20℃~80℃
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Es wird häufig in der Halbleiterherstellung verwendet, um die Temperatur der Reaktionskammer, die Temperatur der Wärmesenke und die Temperatur der nicht brennbaren Flüssigkeit des Wärmeübertragungsmediums zu kontrollieren...
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LTS -40℃~80℃
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It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer…
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LTS -60℃~80℃
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