Dynamische Temperaturregelgeräte
Das Kühl- und Heizungs-Temperaturregelsystem verfügt über eine hervorragende Leistung, eine hochpräzise, intelligente Temperaturregelung und einen sehr breiten Temperaturregelbereich von -120°C bis 350°C, der den Anforderungen der meisten Unternehmen an eine konstante Temperaturregelung gerecht wird.
Wir haben viele Modelle: SUNDI-Serie, WTD-Serie, KRY-Serie, LTS-Serie, etc. Die Temperaturregelungsgenauigkeit des Produkts kann ±0,1°C erreichen, und entsprechende Produkte können mit einer Kühlleistung von 0,5kW bis 1200kW angeboten werden.
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Vorteile
- Kühlleistung 0,5kW~1200kW
- Heizleistung 2kW~200kW
- Hochpräzise, intelligente Temperaturregelung
- Multifunktionales Alarmsystem und Sicherheitsfunktionen
- 7-Zoll- oder 10-Zoll-TFT-Farb-Touchscreen-Grafikdisplay
- Bei der Magnetkupplungspumpe gibt es kein Problem mit der Wellendichtung
- Hochtemperatur-Kühltechnologie, die direkt von 300°C herunterkühlen kann
- Effiziente Produktionsstabilität und reproduzierbare Ergebnisse
- Vollständig geschlossenes System, kein Austausch des flüssigen Mediums erforderlich
Modell-Typen
Kühl- und Heizsysteme (Serie SUNDI)
Temperaturregelbereich: -120°C bis +350°C
Anwendung: Verschiedene Reaktoren (Mikrokanäle, Glas, ummantelte Reaktoren usw.), Destillations- oder Extraktionssysteme, Labor, Universität, Forschungsinstitut, Luft- und Raumfahrt, Automobilindustrie, Halbleiter- und Elektrotests, Chemie, Pharmazie, Petrochemie, Biochemie, Medizin, Krankenhaus, F&E-Werkstatt, Luft- und Raumfahrt, Biologie und andere Industrien.
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Kühl- und Heizsysteme (WTD-Serie)
(Mikrokanal / Röhrenreaktoren spezialisiert)
Temperaturregelbereich: -70°C bis +300°C
Spezielles Design für Mikrokanäle (geringe Flüssigkeitsspeicherkapazität, starke Wärmeaustauschkapazität, Zirkulationssystem mit hohem Druckabfall)
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Kühl- und Heizsysteme (Fluorierte Flüssigkeit LTS-Reihe)
Temperaturregelbereich: -80°C bis +80°C
Es wird häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt, um die Temperatur der Reaktionskammer, der Heizplatte und des nicht brennbaren Wärmeträgers zu regeln.
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Umwälzpumpen für Kühlung und Heizung
Temperaturregelbereich: -45°C bis +250°C
Anwendung: Verschiedene Reaktoren (Mikrokanäle, Glas, ummantelte Reaktoren usw.), Destillations- oder Extraktionssysteme, Labor, Universität, Forschungsinstitut, Luft- und Raumfahrt, Chemie, Pharmazie, Petrochemie, Biochemie, Medizin, Krankenhaus, F&E-Werkstatt, Luft- und Raumfahrt, Biologie und andere Industrien.
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TCU Temperatursteuergeräte
(Produktionsniveau in pharmazeutischen und chemischen Betrieben)
Temperaturregelbereich: -120°C bis +250°C
Anwendung: Chemische, pharmazeutische, petrochemische, biologische und andere Industriezweige, Anforderungen an die Temperaturregelung in der Großproduktion, wie z. B. verschiedene Reaktoren, Destillierapparate, Extraktionssysteme, Fermentationsbehälter usw. für Werkstätten im chinesischen Stil und die Produktion von pharmazeutischen und chemischen Anlagen.
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Prinzip
Ein speziell entwickelter Lag-Schätzer (modellfreier Self-Building-Tree-Algorithmus) erzeugt ein dynamisches Signal yc(t) anstelle der Prozessvariablen y(t) als Rückkopplungssignal. Er erzeugt ein e(t)-Signal für den Regler, so dass der Regler keine große Hysterese bei der Vorhersage des Regeleffekts hat, so dass der Regler immer ein geeignetes Regelsignal erzeugen kann. Das heißt, dieses dynamische Signal yc(t) kann die Rückkopplungsschleife auch bei einer großen Verzögerung normal funktionieren lassen.
Anwendungen
- Dynamische Temperaturregelung eines Hochdruckreaktors
- Dynamische Temperaturregelung eines Zweischicht-Glasreaktors
- Dynamische Temperaturregelung eines Zweischichtreaktors
- Mikrokanal-Reaktor-Temperaturregelung
- Temperaturregelung des Destillationssystems
- Materialalterungstest bei niedriger und hoher Temperatur
- Kombinatorische chemische Konstanttemperaturregelung
- Kühlung und Heizung von Halbleiteranlagen
- Steuerung von Kühlung und Heizung der Vakuumkammer
Erfassungsbereich des Kunden
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